聯(lián)系我們
0510-88276101光潤與您分享氣體放電
發(fā)布時間:2020-07-28瀏覽次數(shù):載入中...
氣體放電特點
![1.webp.jpg 1.webp.jpg]()
1)氣體本身不存在可以參與導電的帶電粒子。氣體導電是由于自然界存在的各種輻射線(紫外線、宇宙射線、放射性元素放射的γ射線等)的光子與氣體分子碰撞,或參與導電的電子和正離子通過氣體時和氣體分子碰撞,而使氣體分子電離的結(jié)果。
2)在恒定溫度下,氣體的電導率由電子密度和平均自由程決定,它是隨外界條件、電場強度、氣體壓力等變化而變化的變量。
3)電子從電場中獲得的能量,主要可以轉(zhuǎn)化為以下四種形式的能量:
A.通過和氣體分子的彈性碰撞轉(zhuǎn)化為分子熱運動的能量;
B.通過激發(fā)碰撞轉(zhuǎn)化為激發(fā)能;
C.通過電離碰撞轉(zhuǎn)化為電離能;
D.通過和電極碰撞將能量轉(zhuǎn)交給電極。
氣體放電過程
氣體放電的基本物理過程 氣體放電總的過程由一些基本過程構(gòu)成,這些基本過程是:激發(fā)、電離、遷移、擴散等。
![2.gif 2.gif]()
1)激發(fā):
荷能電子碰撞氣體分子時,有時能導致原子外殼層電子由原來能級躍遷到較高能級。這個現(xiàn)象,稱為激發(fā);被激發(fā)的原子,稱為受激原子。要激發(fā)一個原子,使其從能級為E1的狀態(tài)躍遷到能級為Em的狀態(tài),就必須給予(Em-E1)的能量;這個能量所相應的電位差設為eVe,則有eVe=Em-E1,電位Ve稱為激發(fā)電位。
2)電離:
亞穩(wěn)原子的亞穩(wěn)電位高于中性原子的電離電位(如氖的亞穩(wěn)原子碰撞氬原子)時,亞穩(wěn)原子碰撞中性原子使后者電離,這個過程稱為潘寧效應。潘寧效應在亞穩(wěn)原子的激發(fā)能比較接近中性分子的電離能時較為明顯,因為前者壽命較長,可以有更多的幾率與中性分子碰撞電離。
3)遷移:
在電場作用下,帶電粒子在氣體中運動時,一方面沿電力線方向運動,不斷獲得能量;一方面與氣體分子碰撞,作無規(guī)則的熱運動,不斷損失能量。經(jīng)若干次加速碰撞后,它們便達到等速運動狀態(tài),這時其平均速度u與電場強度E成正比 u=KE,系數(shù)K稱為電子(離子)遷移率。對于離子,K是一個常數(shù);對于電子,它并不是一個常數(shù),而與電場強度E有關(guān)。
4)擴散:
當帶電粒子在氣體中的分布不均勻時,就出現(xiàn)沿濃度遞減方向的運動,這稱為擴散。帶電粒子的擴散類似于氣體的擴散,也有自擴散和互擴散兩種。擴散現(xiàn)象用擴散系數(shù)來描述,它是帶電粒子擴散能力的一種量度。多種帶電粒子同時存在于氣體時,擴散現(xiàn)象變得復雜。
氣體放電形式
![3.png 3.png]()
一、非自持放電
非自持放電的主要形式是湯生放電,湯生理論的物理描述是:設外界催離素在陰極表面輻照出一個電子,這個電子向陽極方向飛行,并與分子頻繁碰撞,其中一些碰撞可能導致分子的電離,得到一個正離子和一個電子。新電子和原有電子一起,在電場加速下繼續(xù)前進,又能引起分子的電離,電子數(shù)目便雪崩式地增長。這稱為電子繁流。
二、自持放電
放電中產(chǎn)生的正離子然后都抵達陰極。正離子轟擊陰極表面時,使陰極產(chǎn)生電子發(fā)射;這種離子轟擊產(chǎn)生的次級電子發(fā)射,稱為r過程。r過程使放電出現(xiàn)新的特點,這就是:r過程產(chǎn)生的次級電子也能參加繁流。如果同一時間內(nèi),由于r過程產(chǎn)生的電子數(shù),恰好等于飛抵陽極的電子數(shù),放電就能自行維持而不依賴于外界電離源,這時就轉(zhuǎn)化為自持放電。
其中:
1)輝光放電:是在滿足著火條件后立即發(fā)生的一種自持輝光放電。它的特點是從陰極至負電輝區(qū)有幾百伏左右的電位變化。
輝光放電分正常輝光放電和異常輝光放電。放電開始時,輝光只覆蓋一部分陰極表面,這就是正常輝光放電。隨著放電電流的增加,輝光逐漸擴展到整個陰極表面,這就是異常輝光放電。此時陰極位降很大,且位降區(qū)的寬度減小。陰極位降大和電流密度大,會導致陰極材料的濺射。在放電器件中,濺射的吸氣作用降低器件內(nèi)氣體壓強并改變其氣體成分,而濺射形成的導電膜則降低電極間絕緣。陰極濺射現(xiàn)象也可用作材料涂覆的一種手段,這就是濺射鍍膜。 輝光放電的整個放電空間為明暗相間的光層所分隔,而大多數(shù)的光層分布在緊靠陰極的地方。輝光放電的應用很廣,如利用輝光作光源(日光燈、霓虹燈、鈉光燈),利用輝光放電奇異的伏—安曲線作成各種輝光電真空器件(穩(wěn)壓管、整流管、閘流管、放電保險管等),利用輝光放電中正離子轟擊陰極現(xiàn)象做鍍膜機的蒸發(fā)熱源及其它陰極濺射設備,利用輝光放電的理論基礎(chǔ)而發(fā)展的輝光離子氮化技術(shù)(真空離子氮化爐)。
![4.gif 4.gif]()
2)弧光放電
弧光放電是一種低電壓,大電流的放電。它是當異常輝光放電達到峰值以后,如果電流繼續(xù)增加,放電電壓將迅速降低。當電流增加到1A以上時,電壓將下降到40V左右,這時,陰極遭到離子的強烈轟擊后,溫度升高并產(chǎn)生陰極蒸發(fā),在陰極附近極薄的范圍內(nèi)產(chǎn)生很高的汽壓,形成極強的正空間電荷層,因而產(chǎn)生熱電子發(fā)射或強電場發(fā)射,放電管中將出現(xiàn)耀眼的弧光,這就是弧光放電。由于弧光放電的電子發(fā)射很有效,只要很小的發(fā)射面積就能產(chǎn)生很大的電流,因此,發(fā)射電子只是溫度較高、電場較強或逸出功較低的很小陰極部分,因而,弧光放電有一很小而極亮的輝點。
根據(jù)陰極釋放電子的方式不同,弧光放電可分為熱電弧光、場致弧光和熱電子弧光三類。熱電弧光是由難熔金屬(如鎢)陰極,在離子的轟擊下達到很高的溫度后產(chǎn)生的熱電子發(fā)射引起的;場致弧光是利用蒸發(fā)溫度低的物質(zhì)作陰極(如汞陰極),陰極受高速下離子的轟擊后引起大量陰極物質(zhì)的蒸發(fā),因而在陰極表面形成強電場,在強電場的作用下,使陰極表面產(chǎn)生場致發(fā)射,所以又叫冷電弧。熱電子弧光則是將陰極改用熱陰極(氧化物陰極),當陰極加熱時獲得大量的熱電子發(fā)射而產(chǎn)生弧光放電,這種放電稱為熱電子弧光。
弧光放電有三個特點:
A.有很高的溫度。利用它可做為熱源來溶化金屬、焊接金屬;
B.有很強烈的弧光。利用它可制作成各種電光源用于照明、顯示、防空等;
C.大電流、小電壓,有負電特性。利用這一原理可制造電弧爐等設備。
![5.webp.jpg 5.webp.jpg]()
3)高頻放電與微波放電
通常,如果放電管電極的電極性改變,放電的方向也改變。但這只是在頻率很低的情況下才如此。但當頻率提高時,放電來不及熄滅,因而呈現(xiàn)為穩(wěn)定放電的形式:正輝柱位于兩電極中間,正輝柱兩邊均有法拉第暗區(qū),然后是兩個負輝區(qū)緊鄰兩個電極。這就是高頻放電。
頻率在幾百兆赫至幾百吉赫的高頻放電,屬于微波氣體放電。依據(jù)微波放電原理制成的開線開關(guān)管,廣泛應用在雷達工程中。高頻放電離子源,是核物理、等離子體化學的重要研究工具。除此之外,還有電暈放電、火花放電等形式。
【返回列表】
1)氣體本身不存在可以參與導電的帶電粒子。氣體導電是由于自然界存在的各種輻射線(紫外線、宇宙射線、放射性元素放射的γ射線等)的光子與氣體分子碰撞,或參與導電的電子和正離子通過氣體時和氣體分子碰撞,而使氣體分子電離的結(jié)果。
2)在恒定溫度下,氣體的電導率由電子密度和平均自由程決定,它是隨外界條件、電場強度、氣體壓力等變化而變化的變量。
3)電子從電場中獲得的能量,主要可以轉(zhuǎn)化為以下四種形式的能量:
A.通過和氣體分子的彈性碰撞轉(zhuǎn)化為分子熱運動的能量;
B.通過激發(fā)碰撞轉(zhuǎn)化為激發(fā)能;
C.通過電離碰撞轉(zhuǎn)化為電離能;
D.通過和電極碰撞將能量轉(zhuǎn)交給電極。
氣體放電過程
氣體放電的基本物理過程 氣體放電總的過程由一些基本過程構(gòu)成,這些基本過程是:激發(fā)、電離、遷移、擴散等。
1)激發(fā):
荷能電子碰撞氣體分子時,有時能導致原子外殼層電子由原來能級躍遷到較高能級。這個現(xiàn)象,稱為激發(fā);被激發(fā)的原子,稱為受激原子。要激發(fā)一個原子,使其從能級為E1的狀態(tài)躍遷到能級為Em的狀態(tài),就必須給予(Em-E1)的能量;這個能量所相應的電位差設為eVe,則有eVe=Em-E1,電位Ve稱為激發(fā)電位。
2)電離:
亞穩(wěn)原子的亞穩(wěn)電位高于中性原子的電離電位(如氖的亞穩(wěn)原子碰撞氬原子)時,亞穩(wěn)原子碰撞中性原子使后者電離,這個過程稱為潘寧效應。潘寧效應在亞穩(wěn)原子的激發(fā)能比較接近中性分子的電離能時較為明顯,因為前者壽命較長,可以有更多的幾率與中性分子碰撞電離。
3)遷移:
在電場作用下,帶電粒子在氣體中運動時,一方面沿電力線方向運動,不斷獲得能量;一方面與氣體分子碰撞,作無規(guī)則的熱運動,不斷損失能量。經(jīng)若干次加速碰撞后,它們便達到等速運動狀態(tài),這時其平均速度u與電場強度E成正比 u=KE,系數(shù)K稱為電子(離子)遷移率。對于離子,K是一個常數(shù);對于電子,它并不是一個常數(shù),而與電場強度E有關(guān)。
4)擴散:
當帶電粒子在氣體中的分布不均勻時,就出現(xiàn)沿濃度遞減方向的運動,這稱為擴散。帶電粒子的擴散類似于氣體的擴散,也有自擴散和互擴散兩種。擴散現(xiàn)象用擴散系數(shù)來描述,它是帶電粒子擴散能力的一種量度。多種帶電粒子同時存在于氣體時,擴散現(xiàn)象變得復雜。
氣體放電形式
一、非自持放電
非自持放電的主要形式是湯生放電,湯生理論的物理描述是:設外界催離素在陰極表面輻照出一個電子,這個電子向陽極方向飛行,并與分子頻繁碰撞,其中一些碰撞可能導致分子的電離,得到一個正離子和一個電子。新電子和原有電子一起,在電場加速下繼續(xù)前進,又能引起分子的電離,電子數(shù)目便雪崩式地增長。這稱為電子繁流。
二、自持放電
放電中產(chǎn)生的正離子然后都抵達陰極。正離子轟擊陰極表面時,使陰極產(chǎn)生電子發(fā)射;這種離子轟擊產(chǎn)生的次級電子發(fā)射,稱為r過程。r過程使放電出現(xiàn)新的特點,這就是:r過程產(chǎn)生的次級電子也能參加繁流。如果同一時間內(nèi),由于r過程產(chǎn)生的電子數(shù),恰好等于飛抵陽極的電子數(shù),放電就能自行維持而不依賴于外界電離源,這時就轉(zhuǎn)化為自持放電。
其中:
1)輝光放電:是在滿足著火條件后立即發(fā)生的一種自持輝光放電。它的特點是從陰極至負電輝區(qū)有幾百伏左右的電位變化。
輝光放電分正常輝光放電和異常輝光放電。放電開始時,輝光只覆蓋一部分陰極表面,這就是正常輝光放電。隨著放電電流的增加,輝光逐漸擴展到整個陰極表面,這就是異常輝光放電。此時陰極位降很大,且位降區(qū)的寬度減小。陰極位降大和電流密度大,會導致陰極材料的濺射。在放電器件中,濺射的吸氣作用降低器件內(nèi)氣體壓強并改變其氣體成分,而濺射形成的導電膜則降低電極間絕緣。陰極濺射現(xiàn)象也可用作材料涂覆的一種手段,這就是濺射鍍膜。 輝光放電的整個放電空間為明暗相間的光層所分隔,而大多數(shù)的光層分布在緊靠陰極的地方。輝光放電的應用很廣,如利用輝光作光源(日光燈、霓虹燈、鈉光燈),利用輝光放電奇異的伏—安曲線作成各種輝光電真空器件(穩(wěn)壓管、整流管、閘流管、放電保險管等),利用輝光放電中正離子轟擊陰極現(xiàn)象做鍍膜機的蒸發(fā)熱源及其它陰極濺射設備,利用輝光放電的理論基礎(chǔ)而發(fā)展的輝光離子氮化技術(shù)(真空離子氮化爐)。
2)弧光放電
弧光放電是一種低電壓,大電流的放電。它是當異常輝光放電達到峰值以后,如果電流繼續(xù)增加,放電電壓將迅速降低。當電流增加到1A以上時,電壓將下降到40V左右,這時,陰極遭到離子的強烈轟擊后,溫度升高并產(chǎn)生陰極蒸發(fā),在陰極附近極薄的范圍內(nèi)產(chǎn)生很高的汽壓,形成極強的正空間電荷層,因而產(chǎn)生熱電子發(fā)射或強電場發(fā)射,放電管中將出現(xiàn)耀眼的弧光,這就是弧光放電。由于弧光放電的電子發(fā)射很有效,只要很小的發(fā)射面積就能產(chǎn)生很大的電流,因此,發(fā)射電子只是溫度較高、電場較強或逸出功較低的很小陰極部分,因而,弧光放電有一很小而極亮的輝點。
根據(jù)陰極釋放電子的方式不同,弧光放電可分為熱電弧光、場致弧光和熱電子弧光三類。熱電弧光是由難熔金屬(如鎢)陰極,在離子的轟擊下達到很高的溫度后產(chǎn)生的熱電子發(fā)射引起的;場致弧光是利用蒸發(fā)溫度低的物質(zhì)作陰極(如汞陰極),陰極受高速下離子的轟擊后引起大量陰極物質(zhì)的蒸發(fā),因而在陰極表面形成強電場,在強電場的作用下,使陰極表面產(chǎn)生場致發(fā)射,所以又叫冷電弧。熱電子弧光則是將陰極改用熱陰極(氧化物陰極),當陰極加熱時獲得大量的熱電子發(fā)射而產(chǎn)生弧光放電,這種放電稱為熱電子弧光。
弧光放電有三個特點:
A.有很高的溫度。利用它可做為熱源來溶化金屬、焊接金屬;
B.有很強烈的弧光。利用它可制作成各種電光源用于照明、顯示、防空等;
C.大電流、小電壓,有負電特性。利用這一原理可制造電弧爐等設備。
3)高頻放電與微波放電
通常,如果放電管電極的電極性改變,放電的方向也改變。但這只是在頻率很低的情況下才如此。但當頻率提高時,放電來不及熄滅,因而呈現(xiàn)為穩(wěn)定放電的形式:正輝柱位于兩電極中間,正輝柱兩邊均有法拉第暗區(qū),然后是兩個負輝區(qū)緊鄰兩個電極。這就是高頻放電。
頻率在幾百兆赫至幾百吉赫的高頻放電,屬于微波氣體放電。依據(jù)微波放電原理制成的開線開關(guān)管,廣泛應用在雷達工程中。高頻放電離子源,是核物理、等離子體化學的重要研究工具。除此之外,還有電暈放電、火花放電等形式。
【返回列表】
相關(guān)新聞
- 真空鍍膜機的維護保養(yǎng)2021-10-21
- 什么是真空鍍膜機?2021-08-23
- 快來了解下真空在鍍膜工業(yè)中的應用2020-10-12
- 鍍膜工藝之不銹鋼的7種表面處理方式,請收好!2018-10-29
- 一文看懂類金剛石薄膜(DLC)的制備方法及應用2018-03-06